China tendrá su maquina litográfica de 28nm a finales de 2023

El esfuerzo económico que el Gobierno chino está realizando para acelerar el desarrollo de su industria de semiconductores ya está dando resultados. Dos de sus mayores inversiones se realizaron en 2014 y 2019, antes de la guerra tecnológica que estamos presenciando. En 2014, se inyectaron aproximadamente 19 mil millones de dólares en su industria de chips, y en 2019 esta cifra aumentó a casi 27.5 mil millones de dólares. Sin embargo, estas inversiones palidecen en comparación con la última que realizaron.

En septiembre, la Administración de Xi Jinping reveló que invertiría 41 mil millones de dólares para impulsar a los fabricantes de circuitos integrados y equipos de litografía a fabricar sus propias máquinas de producción de chips de última generación. En las últimas semanas, SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corp), el fabricante de semiconductores más grande de China, ha llamado la atención gracias al hito que ha logrado al fabricar un SoC de 7 nm, el Kirin 9000S del Huawei Mate 60 Pro, con equipos de litografía que en principio no estaban diseñados para fabricar chips tan avanzados.

Sin embargo, el protagonista indiscutible de este artículo no es SMIC, sino SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment Group). Esta empresa pública diseña y produce equipos de fabricación de chips de última generación en China, aunque hasta ahora sus máquinas de litografía solo permiten fabricar circuitos integrados de 90 nm. Desde un punto de vista estrictamente tecnológico, estos semiconductores están a años luz de los producidos por TSMC, Samsung o Intel, que son los mayores fabricantes de chips del planeta, utilizando sus tecnologías de integración más avanzadas. Sin embargo, el panorama está a punto de cambiar.

SMEE acaba de dar un golpe en la mesa. Los gobiernos de China, Estados Unidos y sus aliados eligen muy bien el momento en el que dan visibilidad a sus anuncios y el mensaje que utilizan. Son plenamente conscientes de la importancia del ritmo y el tono, y los utilizan a su favor. En este contexto, no sorprende que justo un mes después del logro compartido por SMIC y Huawei, que ha captado toda la atención, y justo en el momento en que el impacto de este hito comienza a disminuir, otra noticia coloca a la industria de chips china en el centro del debate.

El equipo SSA/800-10W de SMEE no puede competir con las mejores máquinas de litografía de ASML, pero representa un avance muy importante para China. SMEE ha anunciado que tendrá lista su primera máquina de litografía desarrollada con tecnología completamente china y lista para fabricar chips de 28 nm antes de finales de 2023. Esta máquina se identificará con la designación comercial SSA/800-10W y, aunque no puede competir con los equipos de litografía ultravioleta extrema (EUV) y ultravioleta profunda (UVP) más avanzados fabricados por la empresa neerlandesa ASML, su llegada representa un avance muy importante en comparación con la máquina SSA600/20 que tienen en la actualidad (la que permite fabricar chips de 90 nm, como mencioné anteriormente).

SMEE quiere convertirse en la ASML china. Es justo lo que el Gobierno liderado por Xi Jinping necesita para proteger el desarrollo de su industria de semiconductores y el progreso tecnológico de su país. El paso que están a punto de dar es muy relevante, pero todavía es difícil predecir cuándo tendrán una máquina de litografía con tecnología SVU. Su complejidad es tal que es poco probable que esté lista antes del final de esta década, y no podemos pasar por alto que ASML va a entregar a uno de sus clientes (presumiblemente Intel, aunque no lo ha confirmado oficialmente) su primera máquina de litografía ultravioleta extrema de alta apertura, que es, en resumen, un equipo de litografía ultravioleta extrema de segunda generación. La lucha entre la alianza liderada por Estados Unidos y China continúa.